仪器型号：MDA-400m

生产厂家：MYCRO韩国

仪器价格：58.5万

技术指标：

l 晶片台：基底尺寸标准尺寸最大至4英寸；可选最大至6英寸；

l 托盘：标准尺寸最大至4英寸；可选最大至6英寸；

l 活动范围：X：10mm Y：10mm Z：10mm Theta：4 degree

l 对准精度：1um

l 挤入补偿：Air bearing型

l Z轴滑动：手动

l 真空泵：无油真空泵

l 掩膜夹具类型：真空吸附和机械夹取

l 紫外光源：紫外灯350瓦

l 均匀光束大小：4.25“ X 4.25“

l 曝光模式：压缩/真空/相邻

l 曝光时间控制：可编程控制型

l 曝光定时器：1 - 999.9秒

主要功能：光刻工艺通过曝光的方法将掩模上的图形转移到涂覆于硅片表面的光刻胶上,然后通过然后通过显影、刻蚀等工艺将图形转移到基片上。

应用领域：一般应用于半导体制造，光电电子，平板，射频微波，衍射光学，微机电系统，凹凸或覆晶设备和其他要求精细印制和精度对准的技术要求。