蚀刻显影清洗系统

作者: 时间:2014-11-03 点击数:

仪器型号:POLOS ACD 200-HD-NPP

生产厂家:德国SPS

仪器价格:33.1万

技术指标:

l 高性能数显控制器,非常方便设定处理速度和加速度程序段,(1-3000转/分钟,重复性:±0.5转/分钟)可设置顺序循环控制;

l 透明ECTFE材质圆顶盖板,便于实时进行可视化操作;

l 可视化操作模型(化学试剂,传感器所见即所得的操作界面);故障报警装置(可形象显明故障发生位置);加速度的最小分辨率为1 RPM/S;宽广的速度设定范围(1~12000RPM);

l 可调节的氮气扩散处理装置;可调降流式排气及排水装置高灵敏安全联锁装置:(当门开启时,运转中的马达快速制动;当腔体未封闭时,系统自动操作保护;在系统运行时,处理腔体自动锁死,保障实验环境绝对安全。)

l 防腐构造:(没有任何裸露的金属部位,能抵抗强酸物质的腐蚀)

主要功能:可以完成蚀刻,显影,清洗和涂膜等制程;在以溶剂和水为基础的处理过程:蚀刻-清洗-干燥 ,显影-冲洗-干燥,以及利用溶剂和水的清洗。其旋转涂敷机部分,具有多种板载滴胶阀的零孔隙度特富龙流体路径等特点,干净的ECTFE圆顶盖使用户能够实时观察过程的安全运行,记事是每一单步处理过程模式。

应用领域:一般应用于半导体制造,光电电子,平板,射频微波,衍射光学,微机电系统。

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